同茂线性马达谈某企引进High NA EUV 设备 EXE:5200B

SK 海力士于当地时间2025年9月3日对外宣布称，已将业界（指存储行业）量产型高数值孔径极紫外光刻机（ High NA EUV）引进韩国利川 M16 工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式。

据同茂线性马达 小编所知，数值孔径是用来衡量透镜汇聚光线能力的数值。NA 值越大，电路图案绘制的精密度越高。电路图案制作越精密，每块晶圆上可生产的芯片数量就越多。而High NA EUV 正是拥有比当前 EUV 更高的数值孔径（NA），可大幅提升分辨率，能够绘制非常微细的电路图案。

小编了解到SK 海力士此次引进的设备为荷兰 ASML 公司推出的 TWINSCAN EXE:5200B ，EUV 光波长 13.5nm，分辨率达 8nm。

说到光刻机，线性马达以被引入其中，作为掩模台系统的驱动装置，光刻机掩模台系统中线性马达运动工况分为扫描运动和定位运动，其中扫描运动主要完成硅片曝光处理，该运动对未定精度以及速度稳定性有很高要求，在稳定基础上追求时间的优化。

同茂线性马达 由昆山同茂电子有限公司自主研发、生产和销售，同茂造高性能线性马达在光刻设备中已有实际应用案例，像上海某微就是咱同茂的战略合作伙伴，多次从我司购置线性马达。

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